一种反射镜阵列优化设计方法

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摘要

本申请公开了一种基于非序列光线追迹，对反射镜阵列二维偏转角度进行优化设计的方法，通过定义优化评价函数来控制与引导优化过程。每个反射镜的二维偏转角为优化变量，在正交下降算法指定的范围内，计算优化变量的最佳值。通过以上过程，本申请提供的反射镜阵列优化设计方法可以对反射镜在二维方向的偏转角度进行自动循环迭代优化，迭代循环结束之后，得到反射镜阵列中每个反射镜在二维方向的偏转角度，进而实现目标面上理想的光斑照度分布。

基本信息

专利标题：

一种反射镜阵列优化设计方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111308702A

申请号：

CN202010243176.5

公开（公告）日：

2020-06-19

申请日：

2020-03-31

授权号：

CN111308702B

授权日：

2022-05-06

发明人：

刘丽红蔡德宇曼纽尔·弗利蒂埃里·恩格尔

申请人：

齐鲁工业大学

申请人地址：

山东省济南市长清区大学路3501号

代理机构：

北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

逯长明

优先权：

CN202010243176.5

主分类号：

G02B27/00

IPC分类号：

G02B27/00 G02B26/08