涂布系统及其校正方法

授权

摘要

本发明公开了一种涂布系统及其校正方法，涂布系统包括多个支撑针、吸附平面以及校正盘。吸附平面位于多个支撑针之间，校正盘用以配置在多个支撑针或吸附平面上。校正盘包括圆形上部表面以及圆形底部表面。圆形底部表面相对于圆形上部表面。圆形底部表面包括圆形平面以及围绕圆形平面的承靠壁，且圆形平面的边缘和圆形底部表面的边缘同心。承靠壁用以限制多个支撑针的水平移动，且圆形平面用以覆盖吸附平面。借此，本发明的涂布系统，可以有效校正支撑针和吸附平面的位置。

基本信息

专利标题：

涂布系统及其校正方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113019835A

申请号：

CN202010542772.3

公开（公告）日：

2021-06-25

申请日：

2020-06-15

授权号：

CN113019835B

授权日：

2022-06-10

发明人：

张胜凯

申请人：

南亚科技股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新北市泰山区南林路98号

代理机构：

北京中誉威圣知识产权代理有限公司

代理人：

席勇

优先权：

CN202010542772.3

主分类号：

B05C13/02

IPC分类号：

B05C13/02