快速测量金属表面电场噪声的装置及方法
授权
摘要

本发明公开了快速测量金属表面电场噪声的装置,包括真空腔、CCD摄像机、第一真空角阀、离子泵、真空挡板阀门、三通真空连接器、第二真空角阀、三维驱动器、三维纳米移动台和待测样品架,还包括设置在真空腔内的芯片支撑架,芯片支撑架上设置有钙原子炉和滤波电路板,滤波电路板的芯片放置孔内设置有离子阱芯片。本发明还公开了快速测量金属表面电场噪声的方法,包括离子囚禁与激光冷却,离子量子态的操控,通过CCD摄像机的离子成像和数据处理。本发明可以在不破坏离子阱真空度的情况下,快速更换待测金属样品;同时,在降低测量操纵难度的情况下,通过CCD摄像机离子成像提供更为简单快速的方法检测待测金属样品的表面电场噪声。

基本信息
专利标题 :
快速测量金属表面电场噪声的装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111856165A
申请号 :
CN202010849030.5
公开(公告)日 :
2020-10-30
申请日 :
2020-08-21
授权号 :
CN111856165B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
陈亮张航魏雅琪刘志超李冀冯芒
申请人 :
中国科学院精密测量科学与技术创新研究院
申请人地址 :
湖北省武汉市武昌区小洪山西30号
代理机构 :
武汉宇晨专利事务所
代理人 :
李鹏
优先权 :
CN202010849030.5
主分类号 :
G01R29/26
IPC分类号 :
G01R29/26  G01R1/02  G01R1/04  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R29/00
不包括在G01R19/00至G01R27/00各组中的电量的测量或指示装置
G01R29/26
噪声值的测量;信噪比的测量
法律状态
2022-05-03 :
授权
2020-11-17 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01R 29/26
申请日 : 20200821
2020-10-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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