一种高通量3D暗斑生成装置
授权
摘要
本发明公开了一种高通量3D暗斑生成装置，并行光束阵列通过横向高通量暗斑阵列的器件后，每束光被调制为涡旋相位光，聚焦后形成横向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成横向暗斑阵列；并行光束阵列通过纵向高通量暗斑阵列的器件后，每束光都被调制为0‑π相位分布，每束光聚焦后形成纵向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成纵向暗斑阵列；将两种光束进行合束，聚焦后两种光斑进行非相干叠加，形成高通量3D暗斑阵列。本发明可提供稳定的高质量高通量3D暗斑阵列；且器件成本低，体积小，可以实现系统的高度集成；可用于实现并行双光束激光直写和并行受激发射损耗显微成像，极大的提升加工和成像速度。
基本信息
专利标题 ：
一种高通量3D暗斑生成装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112034626A
申请号 ：
CN202010863942.8
公开（公告）日 ：
2020-12-04
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
CN112034626B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
匡翠方朱大钊丁晨良刘旭郝翔
申请人 ：
之江实验室
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
邱启旺
优先权 ：
CN202010863942.8
主分类号 ：
G02B27/28
IPC分类号 ：
G02B27/28 G02B27/58
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/28
用于偏振
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-12-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/28
申请日 : 20200825
申请日 : 20200825
2020-12-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
