一种相位测量轮廓术中投影光栅的快速自校正方法
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摘要
本发明涉及一种相位测量轮廓术中投影光栅的快速自校正方法，解决的是影响测量精度的技术问题，通过采用步骤一，就投影界面，使用光栅公式计算边界峰值点作为第一标定点；就参考平面畸变光栅计算光栅上下边界和条纹峰值线，通过相交线提取计算边界峰值点作为第二标定点；步骤二，根据第一标定点和第二标定点计算出投影平面与参考平面的变换矩阵H；步骤三，将参考平面的有效区域设定为标准正弦光栅，结合步骤二的变换矩阵H，逆求解出投影光栅图像，完成校正的技术方案，较好的解决了该问题，可用于相位测量中。
基本信息
专利标题 ：
一种相位测量轮廓术中投影光栅的快速自校正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112229342A
申请号 ：
CN202010961057.3
公开（公告）日 ：
2021-01-15
申请日 ：
2020-09-14
授权号 ：
CN112229342B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
马峻葛旭文
申请人 ：
桂林电子科技大学
申请人地址 ：
广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号
代理机构 ：
桂林文必达专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张学平
优先权 ：
CN202010961057.3
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24 G01B11/25
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-02-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20200914
申请日 : 20200914
2021-01-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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