斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法，包括基膜，所述基膜顶面设置有斜面型金属层，基膜顶面一侧设置有留边，所述基膜厚度均匀性为±0.01mm；包括机台，所述机台顶面固定有箱体，第一挡板与箱体分隔区域为冷却区，第一挡板与第二挡板分隔区域为热处理区，第二挡板与第三挡板分隔区为监测区，第三挡板与箱体分割区域为辊压区；S1、高均匀性基膜制备；S2、斜面型金属层蒸镀；本发明基膜在经过辊压区进行均匀性滚压，保证基膜整体平面水平均匀，再通过监测区对基膜厚度监测，根据监测结果，为保证均匀厚度，在经过热处理区时会进行进一步加工，使得基膜具有高均匀性，最后经过蒸镀在高均匀性的基膜表面形成均匀的斜面型金属层。