一种光调制太赫兹分子检测器件的制备方法
授权
摘要
本发明公开了一种光调制太赫兹分子检测器件的制备方法，此方法利用简单的化学组装、气液界面分离、热力学调控，通过烧结温度和时间调控，得到了无缺陷的石墨烯薄膜结构。此薄膜具有极低缺的陷态结构，一方面具有良好的面电阻(10‑30Ω/□)，另一方面具有极好的光学响应性。将此薄膜贴附于石英表面并进行图案化，至于太赫兹光下，随着表面滴加分子浓度的增加，太赫兹透射光谱峰位会随之变化，因此可以制备成太赫兹分子检测器件，用于检测分子残留。
基本信息
专利标题 ：
一种光调制太赫兹分子检测器件的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112179868A
申请号 ：
CN202011026588.X
公开（公告）日 ：
2021-01-05
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN112179868B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
彭蠡文章高超
申请人 ：
杭州高烯科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区良渚街道纳贤街6号2幢-1
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
邱启旺
优先权 ：
CN202011026588.X
主分类号 ：
G01N21/3581
IPC分类号 ：
G01N21/3581 C01B32/184 C01B32/194
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色；光谱性质，即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应，例如原子吸收光谱术
G01N21/35
利用红外光
G01N21/3581
利用远红外光；利用太赫兹辐射
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2021-01-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/3581
申请日 : 20200925
申请日 : 20200925
2021-01-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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