同时监测多种照明条件的方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种同时监测多种照明条件的方法，其采用同一掩膜图形作为掩膜，在不同的照明条件下，对同一晶圆的不同区域进行曝光，获得多个图案。本发明的优点在于，能够一次曝光即可获得采用同一掩膜图形作为掩膜，不同照明条件在同一所述晶圆上形成的图案，从而可对该图案进行分析，获得该照明条件下对应的图案的关键尺寸，进而判断该照明条件十分可行，本发明方法简单，且测试时间短，提高了生产效率，节约了成本。
基本信息
专利标题 ：
同时监测多种照明条件的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326313A
申请号 ：
CN202011047267.8
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
汪恒
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN202011047267.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200929
申请日 : 20200929
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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