一种接触印相工艺的数码中间底的制作方法

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摘要

本发明涉及一种接触印相工艺的数码中间底的制作方法，包括如下步骤：根据中间底底片的不同材质确定基准曝光时间；根据所述基准曝光时间和打印机调校软件确定打印机墨水的输出控制曲线；根据所述输出控制曲线调整中间底的灰度控制曲线；根据所述灰度控制曲线和图像处理软件调整中间底的输出图像直至最佳，将所述输出图像打印到空白底片。本发明通过绘制打印机墨水的输出控制曲和相应的中间底的灰度控制曲线解决高精度喷墨打印机不同型号的墨水对紫外线遮挡程度的控制问题以及中间底上不同黑色对感光材料图层曝光过程的对应关系问题，使得数码中间底的制作方法简单易行。

基本信息

专利标题：

一种接触印相工艺的数码中间底的制作方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112297669A

申请号：

CN202011067323.4

公开（公告）日：

2021-02-02

申请日：

2020-10-06

授权号：

CN112297669B

授权日：

2022-06-07

发明人：

杨帆

申请人：

杨帆

申请人地址：

湖北省武汉市洪山区珞狮路447号1栋304室

代理机构：

武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

方菲

优先权：

CN202011067323.4

主分类号：

B41M5/00

IPC分类号：

B41M5/00