一种基于磁性四氧化三铁纳米粒子光响应型印迹材料的制备方法...
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摘要
本发明属于检测材料制备技术领域，涉及一种基于磁性四氧化三铁纳米粒子光响应型分子印迹材料的制备方法及其用途；步骤如下：首先制备四氧化三铁纳米粒子和光响应功能单体MAPASA、合成二氧化硅包覆四氧化铁纳米球，然后对二氧化硅包覆四氧化铁纳米球的化学双键修饰；最后得到基于磁性纳米微球的光响应型印迹材料；本发明制备的光响应型印迹材料，可以解决释放和富集目标分子效率低的问题；该印迹材料具有与发明目标一致的明显的核壳结构；同时，本发明结合分子印迹材料与光响应智能材料的性能，成功的应用于对邻苯二甲酸二丁酯的高效检测。
基本信息
专利标题 ：
一种基于磁性四氧化三铁纳米粒子光响应型印迹材料的制备方法及其用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112300347A
申请号 ：
CN202011116020.7
公开（公告）日 ：
2021-02-02
申请日 ：
2020-10-19
授权号 ：
CN112300347B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
黄卫红蒋鹏飞倪晓霓殷锡峰张利明赵珊周恒灯徐婉珍
申请人 ：
江苏大学
申请人地址 ：
江苏省镇江市京口区学府路301号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011116020.7
主分类号 ：
C08F292/00
IPC分类号 ：
C08F292/00 C08F222/14 C08J9/26 B01J20/26 B01J20/30 G01N30/06 C08L51/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F292/00
将单体聚合到无机物上所得到的高分子化合物
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-02-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08F 292/00
申请日 : 20201019
申请日 : 20201019
2021-02-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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