一种原子掺杂光学结构材料的改性计算分析方法
实质审查的生效
摘要
一种原子掺杂光学结构材料的改性计算分析方法。目前在光催化领域,g‑C3N4是水解制氢制氧重要能源材料，为进一步提高g‑C3N4的光催化效果，化学掺杂改性是一个高效的改进方法；Co元素因为其独特的d态在改变g‑C3N4的光催化性能发挥了卓越的贡献，但对其掺杂位置及改性贡献仍没有清楚的认识；本发明提出了一种采用电子空穴分布的分析的方法，采用第一性原理软件CASTEP对Co原子掺杂替换g‑C3N4的N位进行了计算；通过分析各掺杂位的Co原子、C原子和N原子的态密度，得出不同Co掺杂位置带隙降、结构、以及防止光生载流子复合的情况，并且从电子空穴分布这个角度解释了Co‑g‑C3N4的太阳光吸收与电子空穴质心距离的关系；这为先进能源材料的优化与设计提供了一个新思路。
基本信息
专利标题 ：
一种原子掺杂光学结构材料的改性计算分析方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114496120A
申请号 ：
CN202011145387.1
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郝兆朋刘冉范依航张涵邱圆
申请人 ：
长春工业大学
申请人地址 ：
吉林省长春市朝阳区湖西街道延安大街2055号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011145387.1
主分类号 ：
G16C60/00
IPC分类号 ：
G16C60/00 G16C20/20 B01J27/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G16
特别适用于特定应用领域的信息通信技术
G16C
计算化学;化学信息学; 计算材料科学
G16C60/00
计算机材料科学，即专门用于研究与其设计、合成、加工、表征或利用相关的材料或现象的物理或化学特性的ICT
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G16C 60/00
申请日 : 20201023
申请日 : 20201023
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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