一种用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，该系统包括物理屏蔽层(1)和气体屏蔽层(2)，还具有偏转磁场组件(3)、高反光率污染物收集镜(4)和高透光率防护膜(5)，通过物理屏蔽、气体屏蔽、磁场屏蔽步骤对重频激光打靶系统进行防护。本发明公开的用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法，通过多种方式组合屏蔽实现了对重频激光打靶系统的保护，极大提高了重频激光打靶系统中光学元件的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种用于重频激光打靶的溅射屏蔽系统及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114485279A
申请号 ：
CN202011157685.2
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马文君赵家瑞彭梓洋颜学庆
申请人 ：
北京大学
申请人地址 ：
北京市海淀区颐和园路5号
代理机构 ：
北京康思博达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
范国锋
优先权 ：
CN202011157685.2
主分类号 ：
F41J5/02
IPC分类号 ：
F41J5/02
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F41
武器
F41J
靶；靶场；弹头收集器
F41J
靶；靶场；弹头收集器
F41J5/00
靶指示系统；靶命中或得分指示系统
F41J5/02
光电式命中指示器系统
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : F41J 5/02
申请日 : 20201026
申请日 : 20201026
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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