屏蔽层、屏蔽层的制造方法及氧化物溅射靶
授权
摘要
一种屏蔽层(20)，其配设于液晶显示面板(10)，该屏蔽层(20)的特征在于，由如下氧化物构成：将金属成分的总计设为100原子％，在60原子％以上且80原子％以下的范围内包含In，且剩余部分为Si及不可避免的杂质金属元素，并且，将金属成分的总计设为100原子％，还可以在1原子％以上且32原子％以下的范围内包含Zr。
基本信息
专利标题 ：
屏蔽层、屏蔽层的制造方法及氧化物溅射靶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111902561A
申请号 ：
CN201980019072.1
公开（公告）日 ：
2020-11-06
申请日 ：
2019-04-11
授权号 ：
CN111902561B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
森理惠山口刚
申请人 ：
三菱综合材料株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
刁兴利
优先权 ：
CN201980019072.1
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C04B35/01 C23C14/34 G02B1/16 G06F3/041 H05K9/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-11-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/08
申请日 : 20190411
申请日 : 20190411
2020-11-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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