溅射靶及其制造方法
授权
摘要
本发明的溅射靶包含Al和Sc的合金、且以25原子％～50原子％含有Sc，其中氧含量为2000质量ppm以下、维氏硬度Hv的偏差为20％以下。
基本信息
专利标题 ：
溅射靶及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109312449A
申请号 ：
CN201780035628.7
公开（公告）日 ：
2019-02-05
申请日 ：
2017-06-07
授权号 ：
CN109312449B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
守井泰士小井土由将
申请人 ：
JX金属株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宋融冰
优先权 ：
CN201780035628.7
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C22C21/00 C22C28/00 C22F1/04 C22F1/16 C22F1/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2019-03-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20170607
申请日 : 20170607
2019-02-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN109312449A.PDF
PDF下载
