用于制造金属玻璃膜的溅射靶及其制造方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要

本发明涉及一种用于制造金属玻璃膜的溅射靶,其特征在于,具有以选自Pd、Zr、Fe、Co、Cu、Ni中的至少一种以上的金属元素为主要成分(以原子%最多的成分)的3元系以上的组成,具有通过烧结平均粒径为50μm以下的喷雾粉得到的组织。本发明的课题在于,得到用于制造金属玻璃膜的溅射靶及其制造方法,能代替通过成本高的以往的熔融金属的淬火得到的块状金属玻璃,没有所制造的金属玻璃膜的缺陷和组成不均匀的问题,组织均匀,并且能以高效、低成本制造,而且结核和颗粒的发生少。

基本信息
专利标题 :
用于制造金属玻璃膜的溅射靶及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101061252A
申请号 :
CN200580039078.3
公开(公告)日 :
2007-10-24
申请日 :
2005-11-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
中村笃志矢作政隆井上明久木村久道山浦真一
申请人 :
日矿金属株式会社;东北大学
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 :
樊卫民
优先权 :
CN200580039078.3
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34  B22F9/08  C22C5/04  C22C9/00  C22C16/00  C22C19/03  C22C19/07  C22C38/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2013-08-28 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101654860557
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利申请号 : 2005800390783
申请公布日 : 20071024
2011-02-16 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101067076628
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利申请号 : 2005800390783
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 日矿金属株式会社
变更后权利人 : JX日矿日石金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
变更事项 : 共同申请人
变更前权利人 : 东北大学
变更后权利人 : 东北大学
登记生效日 : 20110104
2007-12-19 :
实质审查的生效
2007-10-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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