一种研磨抛光装置，用于夹持一预制品并对预制品进行研磨抛光处理，包括基座、磨盘、样品盘、第一控制台以及第二控制台，基座包括支撑台以及支撑柱，支撑台与支撑柱连接；磨盘固定于支撑台上，磨盘具有一打磨面；样品盘固定于支撑柱上，样品盘包括底座、两个支架、紧固件、至少两个夹具及定位旋钮，底座包括一固定面，固定面朝向打磨面并与固定面平行设置；两个支架可活动地设置于底座上；紧固件将支架固定于底座上；至少两个夹具可旋转地固定于支架上并夹持预制品；定位旋钮将夹具固定于支架上；第一控制台电连接样品盘，用于控制样品盘固定的预制品与打磨面之间的距离；第二控制台电连接磨盘，用于控制磨盘的工作状态，以研磨抛光处理预制品。