阵列基板及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要
本公开实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,用于改善亮点(或暗点)不良现象。阵列基板包括第一衬底;沿第一方向延伸的栅线和沿第二方向延伸的数据线;薄膜晶体管;反射电极。第一方向和第二方向相交,栅线和数据线限定出子像素区域。一个薄膜晶体管位于一个子像素区域。一个反射电极位于一个子像素区域,反射电极与位于同一子像素区域的薄膜晶体管电连接。反射电极的边界包括:沿第一方向延伸的第一子边界,沿第二方向延伸的第二子边界,连接相邻第一子边界和第二子边界的倒角边界;相邻第一子边界和第二子边界的延长线的交点位于反射电极的边界外。本公开实施例提供的阵列基板及其制备方法、显示装置用于显示。
基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制备方法、显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114460782A
申请号 :
CN202011195950.6
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2020-10-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王继国孙建刘建涛杨小艳
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 :
申健
优先权 :
CN202011195950.6
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362 H01L27/12 H01L21/77
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20201030
申请日 : 20201030
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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