本申请提供一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置，制备方法包括：提供一驱动电路层，驱动电路层包括设有第一过孔的平坦化层；在设有第一过孔的平坦化层上形成依次形成公共电极层和接触电极层；在接触电极层上形成光阻层；对光阻层、公共电极层以及接触电极层进行图案化处理，形成第二过孔，第一过孔和第二过孔连通；剥离光阻层；在公共电极层、接触电极层以及平坦化层上形成第一绝缘层和像素电极层。本申请的制备方法通过仅增加一次铜刻蚀工艺，减少一次光阻涂布和一次光阻剥离工艺，从而在公共电极层和接触电极层在形成图案化时，仅需采用一道黄光工艺，从而可以有利于提高整个阵列基板制程的产能，进而有利于实现成本节约和产能提高。