阵列基板及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要
本申请实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，阵列基板包括：基板；驱动电路，设于基板上，驱动电路包括至少一个第一薄膜晶体管，第一薄膜晶体管包括第一有源层及第一栅极层，第一有源层与第一栅极层相对且绝缘设置，第一有源层与第一栅极层之间的间距为第一间距；像素电路，设于基板上，像素电路电连接驱动电路，像素电路包括至少一个第二薄膜晶体管，第二薄膜晶体管包括第二有源层及第二栅极层，第二有源层与第二栅极层相对且绝缘设置，第二有源层与第二栅极层之间的间距为第二间距，第二间距大于第一间距。本申请提供一种促进窄边框及提高显示效果的阵列基板及其制备方法、显示装置。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板及其制备方法、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114512496A
申请号 ：
CN202011291733.7
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
晏国文
申请人 ：
深圳市柔宇科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区横岗街道龙岗大道8288号大运软件小镇43栋
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
熊永强
优先权 ：
CN202011291733.7
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L21/77 H01L27/32 G09G3/3233
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20201117
申请日 : 20201117
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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