晶圆检验方法及系统
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种晶圆检验方法及系统,晶圆检验方法包括下列步骤:撷取多张焊垫影像;根据物件侦测模型对这些焊垫影像进行辨识,并将这些焊垫影像分类为多张第一类焊垫影像以及多张第二类焊垫影像,其中这些第一类焊垫影像各自包含扎穿特征以及第一针痕特征,而这些第二类焊垫影像各自包含第二针痕特征;计算扎穿特征与第一类焊垫影像上的第一预设区域的面积比值;判断该面积比值是否大于预设值;以及,储存分类与判断结果。本发明内容同时提供一种晶圆验证系统,用以执行该晶圆验证方法。本发明内容的晶圆检验系统与晶圆检验方法可避免因为作业人员疲劳或主观判断而造成判断误差,还可有效增加检验晶圆的效率。

基本信息
专利标题 :
晶圆检验方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114264657A
申请号 :
CN202011322234.X
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2020-11-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
蔡佳霖古文烨李泓儒
申请人 :
南亚科技股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新北市泰山区南林路98号
代理机构 :
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 :
浦彩华
优先权 :
CN202011322234.X
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G01N21/95  G01N21/84  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/88
申请日 : 20201123
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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