基于共路并行荧光辐射差分的超分辨显微成像方法和装置
授权
摘要
本发明公开了一种基于共路并行荧光辐射差分的超分辨显微成像方法和装置，本方法利用液晶空间光调制器对荧光辐射差分超分辨显微成像中的激发光进行调制，将空间光调制器两部分分别加载为0‑2π涡旋相位调制和闪耀光栅，使得共路的激发光在样品面同时形成有一定距离的一个实心光斑和一个空心光斑，进行并行扫描，从而保证成像速度相较普通荧光辐射差分超分辨显微成像提高一倍的同时两激发光因共路而不易受到噪声、漂移等干扰的影响。
基本信息
专利标题 ：
基于共路并行荧光辐射差分的超分辨显微成像方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112649405A
申请号 ：
CN202011357705.0
公开（公告）日 ：
2021-04-13
申请日 ：
2020-11-27
授权号 ：
CN112649405B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
匡翠方张智敏黄宇然刘少聪刘旭
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
刘静
优先权 ：
CN202011357705.0
主分类号 ：
G01N21/64
IPC分类号 ：
G01N21/64 G01J3/44 G02B21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光；磷光
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-04-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20201127
申请日 : 20201127
2021-04-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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