共光路差分干涉位移测量系统及方法
授权
摘要
本发明公开一种共光路差分干涉位移测量系统及方法,系统包括相干光源,用于发出两束相干的激光,所述激光为一束测量臂和一束参考臂;位移元件,用于将待测物理量转换为测量臂沿基准光栅矢量方向的光平移量;合束元件,用于将测量臂与参考臂合束;基准光栅,用于使位移后的测量臂产生衍射多普勒效应,将测量臂与参考臂合束产生的干涉信号分为多路以作差分;相位探测元件,用于干涉信号的探测及相位计算。位移测量系统中,多路干涉信号相位的差分可以消除合束元件之前的环境扰动误差,而合束后的环境扰动误差可以通过测量臂与参考臂的共光路干涉来互消,使测量结果完全不受环境扰动的影响,位移测量精度极高,特别适用于非真空环境中的高精度测量。
基本信息
专利标题 :
共光路差分干涉位移测量系统及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113237427A
申请号 :
CN202110526074.9
公开(公告)日 :
2021-08-10
申请日 :
2021-05-14
授权号 :
CN113237427B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
张鸣叶伟楠朱煜王磊杰成荣郭子文李鑫
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
北京市海淀区清华园
代理机构 :
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 :
董永辉
优先权 :
CN202110526074.9
主分类号 :
G01B11/02
IPC分类号 :
G01B11/02 G01D5/353
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2022-04-29 :
授权
2021-08-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/02
申请日 : 20210514
申请日 : 20210514
2021-08-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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