干涉仪位移测量系统及方法
授权
摘要

本发明提供一种干涉仪位移测量系统及方法,其中的系统包括:测量光经第一偏振分光棱镜、第一1/4波片、第一分光棱镜、光波导组件以及反射装置的处理后,返回第一光电探测器和第二光电探测器中;参考光经第二偏振分光棱镜、第二1/4波片、第二分光棱镜以及反射镜的处理后,返回至第一光电探测器和第二光电探测器中;第一光电探测器根据处理后的测量光和参考光形成测量信号,第二光电探测器根据处理后的测量光和参考光形成参考信号;根据测量信号和参考信号确定待检测物体的位移信息。利用上述发明能够减小位移测量误差、提高测量精度和测量范围。

基本信息
专利标题 :
干涉仪位移测量系统及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112484647A
申请号 :
CN202011293860.0
公开(公告)日 :
2021-03-12
申请日 :
2020-11-18
授权号 :
CN112484647B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
孙国华高晓良徐蕾
申请人 :
北京华卓精科科技股份有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区经济技术开发区经海四路156号院10号楼4层
代理机构 :
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 :
王迎
优先权 :
CN202011293860.0
主分类号 :
G01B11/02
IPC分类号 :
G01B11/02  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2022-06-10 :
授权
2021-11-23 :
著录事项变更
IPC(主分类) : G01B 11/02
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京华卓精科科技股份有限公司
变更后 : 北京华卓精科科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100176 北京市大兴区经济技术开发区经海四路156号院10号楼4层
变更后 : 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十街19号院2号楼2层(北京自贸试验区高端产业片区亦庄组团)
2021-03-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/02
申请日 : 20201118
2021-03-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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