用于测量位移的干涉仪系统以及采用该干涉仪系统的曝光系统
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摘要
用于测量位移的干涉仪系统包括位移干涉仪。该干涉仪包括响应测量光束的位移变换器。配置该位移变换器，以将其在垂直于测量光束的方向上的移动变换为位移变换器的反射面与测量光束之间的光程长度的变化。位移变换器可以包括透射光栅和位移反射镜或者反射光栅。
基本信息
专利标题 ：
用于测量位移的干涉仪系统以及采用该干涉仪系统的曝光系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1758014A
申请号 ：
CN200510107092.4
公开（公告）日 ：
2006-04-12
申请日 ：
2005-09-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴崠云
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
林宇清
优先权 ：
CN200510107092.4
主分类号 ：
G01B9/02
IPC分类号 ：
G01B9/02 G01B9/025 G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B9/00
组中所列的及以采用光学测量方法为其特征的仪器
G01B9/02
干涉仪
法律状态
2009-07-29 ：
授权
2007-11-28 ：
实质审查的生效
2006-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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