一种基于干涉位移测量系统的滚转角测量系统和方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种基于干涉位移测量的滚转角测量系统和方法，包括底座和两单频干涉位移测量系统；所述底座上设有直线导轨，所述直线导轨上安装有负载平台，所述待测运动轴的轴向与所述直线导轨的线性运动方向一致；两所述单频干涉位移测量系统沿待测运动轴对称固定在所述底座的上方；两所述单频干涉位移测量系统的条形平面反射镜沿待测运动轴对称固定到负载平台上；解决了现有滚转角双频干涉测量技术中测量速度受到频差限制，系统复杂且安装调试难度大的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种基于干涉位移测量系统的滚转角测量系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114264255A
申请号 ：
CN202111623670.5
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王亮亮商正君杨美婷杨静董姗赵建海于涌
申请人 ：
中国科学院上海天文台
申请人地址 ：
上海市徐汇区南丹路80号
代理机构 ：
南京业腾知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
马静静
优先权 ：
CN202111623670.5
主分类号 ：
G01B11/26
IPC分类号 ：
G01B11/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/26
•用于计量角度或锥度；用于检测轴线准直
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/26
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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