自参考干涉仪棱镜的退偏补偿方法
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摘要
本公开提供了一种自参考干涉仪棱镜的退偏补偿方法,包括:自参考干涉仪棱镜中作为反射面的屋脊面一、屋脊面二、底面一、屋脊面三、屋脊面四和底面二上镀有反射面膜层;根据反射面膜层的光学参数,计算其折射率;入射光入射到自参考干涉仪棱镜和反射面膜层的分界面时,分解为P偏振分量和S偏振分量,根据反射面膜层和自参考干涉仪棱镜的折射率,计算出射光的P偏振分量和S偏振分量在自参考干涉仪棱镜内反射产生的相位差和光强;出射光的椭圆度和光强作为评价参数,评价自参考干涉仪棱镜的退偏补偿效果。本公开通过偏振光的琼斯矩阵追迹并以出射光的椭圆度和光强作为评价参数,为反射面膜层参数的优化和效果评价提供了依据和实际可操作性。
基本信息
专利标题 :
自参考干涉仪棱镜的退偏补偿方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112539696A
申请号 :
CN202011374250.3
公开(公告)日 :
2021-03-23
申请日 :
2020-11-30
授权号 :
CN112539696B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
徐孟南卢增雄齐月静李璟谢冬冬马敬
申请人 :
中国科学院微电子研究所
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
王江选
优先权 :
CN202011374250.3
主分类号 :
G01B9/02
IPC分类号 :
G01B9/02 G02B27/28
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B9/00
组中所列的及以采用光学测量方法为其特征的仪器
G01B9/02
干涉仪
法律状态
2022-04-29 :
授权
2021-04-09 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 9/02
申请日 : 20201130
申请日 : 20201130
2021-03-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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