器件转印处理方法及微型麦克风防尘装置转印处理方法
授权
摘要
本发明提供一种器件转印处理方法及微型麦克风防尘装置转印处理方法，其中的器件转印处理方法包括在基板上形成牺牲层；在牺牲层远离基板的一侧设置锚点层，锚点层通过凸起且穿透牺牲层的锚点结构与基板固定连接，锚点结构设置在锚点层的至少一个边部位置；在锚点层远离基板的一侧设置器件；将器件及位于器件一侧的锚点层固定在转印带上，并将锚点层从牺牲层及基板上剥离，以完成器件的转印处理。利用上述发明能够在牺牲层被刻蚀的情况下，确保其上的器件不被剥离，进而保证器件的密着性。
基本信息
专利标题 ：
器件转印处理方法及微型麦克风防尘装置转印处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112606585A
申请号 ：
CN202011400343.9
公开（公告）日 ：
2021-04-06
申请日 ：
2020-12-02
授权号 ：
CN112606585B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
畠山庸平林育菁
申请人 ：
潍坊歌尔微电子有限公司
申请人地址 ：
山东省潍坊市高新区新城街道蓉花社区蓉花路102号歌尔二期工业园10号楼
代理机构 ：
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 ：
王迎
优先权 ：
CN202011400343.9
主分类号 ：
B41M3/12
IPC分类号 ：
B41M3/12 B41M5/025 H04R31/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41M
印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷
B41M3/00
生产特殊品种印刷品的印刷过程，例如图画
B41M3/12
图画转印或类似过程，如贴花纸印刷
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2021-04-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B41M 3/12
申请日 : 20201202
申请日 : 20201202
2021-04-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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