一种基于声表面波折射率场虚拟雕刻的声光透镜芯片
授权
摘要

一种基于声表面波和声光调制的平面可集成透镜芯片,包括压电基底,压电基底的一侧设有叉指电极,设有叉指电极的压电基底一侧键合有固体介质;使用时,将基于声表面波和声光调制的平面可集成透镜芯片放置在目标前,叉指电极调节固体介质的密度,在固体介质内进行折射率场的虚拟雕刻;由目标所发出的光线经过固体介质内的折射率场调制后,光线产生偏转,导致图像的焦距产生变化;通过改变叉指电极上的电压,调整焦距,使得最终所呈的像为清晰的图像;本发明适用于组织体模等散射介质。

基本信息
专利标题 :
一种基于声表面波折射率场虚拟雕刻的声光透镜芯片
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112526777A
申请号 :
CN202011403567.5
公开(公告)日 :
2021-03-19
申请日 :
2020-12-04
授权号 :
CN112526777B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
韦学勇秦咸明陈轩蒋庄德
申请人 :
西安交通大学
申请人地址 :
陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
代理机构 :
西安智大知识产权代理事务所
代理人 :
贺建斌
优先权 :
CN202011403567.5
主分类号 :
G02F1/11
IPC分类号 :
G02F1/11  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/11
基于声—光元件的,例如,利用声或类似的机械波的可变衍射作用
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-04-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/11
申请日 : 20201204
2021-03-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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