一种整体式多孔金属电极及其制备方法
公开
摘要
本发明提供了一种整体式电极，包括基体材料和其内部的梯度式分级多孔构造，所述基体材料为镍、铁、钛、钴、铝、钼、铜及其磷化物、硫化物、金属间化合物中的任意一种或几种，基体材料可为单相或多相；结合粉末冶金法和空间造孔法，制备出同时具备高流体透过性和高比表面积的整体式电极。与传统的整体式金属电极相比，本发明的整体式电极具有微观孔隙构造上的明显优势，并且微观孔道构造高度可控，进而表现出了更优异的电催化活性。具体体现为相同基体下，析氧和析氢的过电位明显大幅降低，并且大电流条件下的电流密度得到明显提高。
基本信息
专利标题 ：
一种整体式多孔金属电极及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114606525A
申请号 ：
CN202011446616.3
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邓德会舒运茂刘艳廷
申请人 ：
中国科学院大连化学物理研究所
申请人地址 ：
辽宁省大连市沙河口区中山路457号
代理机构 ：
大连东方专利代理有限责任公司
代理人 ：
周媛媛
优先权 ：
CN202011446616.3
主分类号 ：
C25B11/031
IPC分类号 ：
C25B11/031 B22F3/11
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B11/031
多孔电极
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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