一种单晶硅片清洗剂及其应用
授权
摘要
本发明公开了一种单晶硅片清洗剂及其应用，本发明的单晶硅片清洗剂包括以下原料：醇类化合物、过氧化氢、烷基氢氧化铵水合物、氨水和含氟表面活性剂；其实现了高效去除单晶硅片表面的聚合物颗粒、光致抗蚀剂、人皮油脂、硅基真空脂、机械油、金属污染物等加工杂质并去除硅片表面的机械损伤层；同时，本发明避免了以无机强碱作为传统单晶硅片清洗剂主要成分的技术缺陷，提高了有机污染物的去除效果，改善了强碱对硅片5.5％的减薄损失，降低了后续制绒过程的破片率。
基本信息
专利标题 ：
一种单晶硅片清洗剂及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112608799A
申请号 ：
CN202011593747.4
公开（公告）日 ：
2021-04-06
申请日 ：
2020-12-29
授权号 ：
CN112608799B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
喻桉史华红麦裕良文武
申请人 ：
广东省科学院化工研究所
申请人地址 ：
广东省广州市天河区棠下车陂西路318号
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
肖云
优先权 ：
CN202011593747.4
主分类号 ：
C11D1/14
IPC分类号 ：
C11D1/14 C11D3/04 C11D3/20 C11D3/30 C11D3/39 C11D11/00 H01L31/18 C11D3/60
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D1/00
主要以表面活性化合物为基料的洗涤组合物；使用这些化合物作为洗涤剂
C11D1/02
阴离子化合物
C11D1/12
磺酸或硫酸脂；其盐类
C11D1/14
由脂族烃或一元醇衍生的
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-04-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C11D 1/14
申请日 : 20201229
申请日 : 20201229
2021-04-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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