一种单晶硅刻蚀制绒添加剂及其应用
授权
摘要
本发明属于硅片制绒技术，特别涉及一种单晶硅刻蚀制绒添加剂及其应用。选择特定种类、特定分子量的魔芋葡甘露聚糖作为添加剂加入到碱液中制备制绒液，并和表面活性剂、抗坏血酸、氢氧化钠、炔二醇、磺酸钠、絮凝剂加入复配协同，得到单晶硅刻蚀制绒液，并采用该制绒液对单晶硅进行制绒，不仅可达到降低碱液用量，而且避免了硅片表面的规整性受到破坏，能有效减少对光的反射，提高组装得到的太阳能电池片的光电转换效率。
基本信息
专利标题 ：
一种单晶硅刻蚀制绒添加剂及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112813502A
申请号 ：
CN202011643702.3
公开（公告）日 ：
2021-05-18
申请日 ：
2020-12-30
授权号 ：
CN112813502B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
张小飞
申请人 ：
常州高特新材料股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进区潞城街道五一路310号
代理机构 ：
常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王志慧
优先权 ：
CN202011643702.3
主分类号 ：
C30B33/10
IPC分类号 ：
C30B33/10 C30B29/06 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B33/00
单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的后处理
C30B33/08
侵蚀
C30B33/10
在溶液或熔体内
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-06-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 33/10
申请日 : 20201230
申请日 : 20201230
2021-05-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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