一种用于制备电极的掩模版组件
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于制备电极的掩模版组件，包括透明玻璃板、PET材质菲林，以及将两者牢固且平整贴合在一起的PET材质双面胶，所述透明玻璃板的外周设有限位部，所述PET材质双面胶置于所述限位部内且顶面与所述透明玻璃板的顶面平齐，通过在透明玻璃板的适当位置设置限位部，并通过PET材质双面胶及所述限位部的相互配合，从而可以解决现有技术在牢固性和平整性方面的缺陷，且无需大幅增加成本。
基本信息
专利标题 ：
一种用于制备电极的掩模版组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020018892.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-06
授权号 ：
CN211454227U
授权日 ：
2020-09-08
发明人 ：
刘旭冉戴春雷
申请人 ：
深圳顺络电子股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区观澜街道大富苑工业区顺络观澜工业园
代理机构 ：
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 ：
江耀锋
优先权 ：
CN202020018892.9
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2020-09-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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