一种可调式磁场装置
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体来说是一种可调式磁场装置，包括冷却块、磁铁支架、磁铁盖板、圆形磁铁和磁控固定板，其特征在于：所述冷却块由槽形内框体组成，所述冷却块内部设有磁铁支架，所述磁铁支架内部设有若干圆形磁铁，所述磁铁支架上端设有磁铁盖板，所述磁铁盖板上端设有磁控固定板，磁铁支架与磁控固定板采用轻便的材质使得整体更换与调节更为方便，且铝材与塑料也杜绝了生锈带来的各种问题，通过改动圆形磁铁的数量来改变每个电磁场方向和磁通量的大小，从而提高了沉积速度，增加了镀膜的稳定性，满足了工艺稳定等问题，使得镀膜的厚度更加均匀，本实用新型不但提高了靶材的利用率，降低了设备的投入成本。
基本信息
专利标题 ：
一种可调式磁场装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020046677.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-10
授权号 ：
CN212025446U
授权日 ：
2020-11-27
发明人 ：
毛念新黄翔鄂严仲君
申请人 ：
上海嘉森真空科技有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区博学南路1015弄9号
代理机构 ：
上海三方专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴玮
优先权 ：
CN202020046677.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54 C23C14/14 C23C14/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-11-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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