基于漫反射原理的成像光谱拍摄暗箱
授权
摘要
本实用新型公开了基于漫反射原理的成像光谱拍摄暗箱，涉及拍摄装置技术领域，达到了使处于暗箱内的样品接受均匀光照，光谱图片中不存在光斑的目的。本实用新型的主要技术方案为：基于漫反射原理的成像光谱拍摄暗箱，包括：壳体，包括上下层，下层内壁中喷涂漫反射材料以降低光线损耗；照明设备，包括散热器、支架、卤素灯和漫射板，所述卤素灯发出的光垂直照在漫射板上进入在壳体内部；仪器托架，包括挡光板、固定柱和垫圈，成像光谱仪固定于所述固定柱上，将镜头探入拍摄孔进行拍摄。本实用新型主要用于拍摄时样品受光均匀、隔热、密封。
基本信息
专利标题 ：
基于漫反射原理的成像光谱拍摄暗箱
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020184917.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-19
授权号 ：
CN212159521U
授权日 ：
2020-12-15
发明人 ：
王海江李天胜吕新李亚莉崔静祝榛
申请人 ：
石河子大学
申请人地址 ：
新疆维吾尔自治区石河子市北四路221号
代理机构 ：
乌鲁木齐市禾工专利代理事务所
代理人 ：
何冰
优先权 ：
CN202020184917.2
主分类号 ：
G01N21/01
IPC分类号 ：
G01N21/01 G01N21/47
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2020-12-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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