单晶磨抛控制系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种单晶磨抛控制系统，属于单晶的联动控制技术领域。本实用新型包括PLC控制器、夹持机构、磨抛机构、位移传感器、工作台和丝杠机构，还包括夹持变频器、磨抛变频器、丝杠变频器、显示器和位移控制器，PLC控制器控制夹持变频器控制夹持机构，夹持机构控制单晶的夹持；PLC控制器控制磨抛变频器控制磨抛机构，磨抛机构控制单晶的粗磨和精磨；PLC控制器控制丝杠变频器控制丝杠机构，丝杠机构控制夹持机构的左右间距；PLC控制器通过位移控制器控制位移传感器，位移传感器检测单晶的边缘，检测到的边缘信号通过PLC控制器反馈到磨抛机构对单晶的磨抛进行控制，提高磨抛质量。
基本信息
专利标题 ：
单晶磨抛控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020234397.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN211841375U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
李泽荣王得义张宇
申请人 ：
青岛思锐自动化工程有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市崂山区株洲路177号惠特工业城5号楼西单元4层
代理机构 ：
青岛发思特专利商标代理有限公司
代理人 ：
巩同海
优先权 ：
CN202020234397.1
主分类号 ：
B24B19/22
IPC分类号 ：
B24B19/22 B24B29/02 B24B41/06 B24B51/00 B24B41/00 B24B49/00 B24B47/22
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B19/00
未包括在其他任一大组的特殊磨削加工的专用机床或装置
B24B19/22
以被磨非金属制品材料性质为特征专门设计的
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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