一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置,涉及多晶硅生产领域，包括还原炉、射流真空泵、水封槽和淋洗塔，且淋洗塔安装在水封槽内；所述还原炉上安装有尾气输送管，且尾气输送管的出口端与淋洗塔的下端连接；所述射流真空泵安装在尾气输送管上，且射流真空泵上还安装有进水管。本实用新型在对废气进行淋洗过程中，不需要对还原炉内进行多次加压，有效防止还原炉内的硅棒或硅芯倒炉，使硅棒或硅芯的质量得到保证；同时，能有效使进入还原炉内的氮气能与多晶硅在还原过程中产生的废气进行充分置换，有效避免氮气浪费。
基本信息
专利标题 ：
一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020268360.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-06
授权号 ：
CN212142093U
授权日 ：
2020-12-15
发明人 ：
高志明高承燕鲍守珍甘易武王明强郑连基
申请人 ：
亚洲硅业（青海）股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请人地址 ：
青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号
代理机构 ：
成都华风专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
杜朗宇
优先权 ：
CN202020268360.0
主分类号 ：
B01D53/78
IPC分类号 ：
B01D53/78 B01D53/68
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D53/00
气体或蒸气的分离；从气体中回收挥发性溶剂的蒸气；废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化
B01D53/34
废气的化学或生物净化
B01D53/74
净化废气的一般方法；为这类方法特别设计的设备或装置
B01D53/77
液相方法
B01D53/78
利用气—液接触
法律状态
2020-12-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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