一种用于镀膜设备的AF药丸的承载装置
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摘要

本实用新型公开了一种用于镀膜设备的AF药丸的承载装置,包括底板,底板顶面设有相对称的导电柱,导电柱之间架设钨舟,钨舟中间向下凹陷形成药丸槽;底板顶面位于导线柱边侧设有相对称的支撑板,支撑板顶端固接横向的顶板,顶板两侧上下贯穿有内螺纹管,且内螺纹管螺纹穿设有对称的螺杆,螺杆底端之间设有镀膜板,且镀膜板和螺杆底端限位转动;镀膜板底面设有用于镀膜设备架设的放置架,放置架通过调节机构和放置架活动连接,且放置架位于药丸槽正上方;本实用新型通过调节机构使得放置镀膜设备的放置架可形成适配不同尺寸的效果;从而使得钨舟镀膜设备在进行镀膜作业时,无需更换其他放置架,其结构简单易行,适合推广。

基本信息
专利标题 :
一种用于镀膜设备的AF药丸的承载装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020295001.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-11
授权号 :
CN211848114U
授权日 :
2020-11-03
发明人 :
宫秀明曾桂阳王久文
申请人 :
东莞泰岳光学镀膜材料有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市长安镇沙头社区裕成路36号翰诠科技大厦13楼01单元
代理机构 :
东莞市永邦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈保江
优先权 :
CN202020295001.4
主分类号 :
C23C14/26
IPC分类号 :
C23C14/26  C23C14/50  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2020-11-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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