用于光束偏振匀滑的系统

授权

摘要

本申请涉及激光偏振匀滑技术领域，公开了一种用于光束偏振匀滑的系统，包括：用于实现目标焦斑轮廓及强度分布匀滑的连续相位板、用于实现偏振分离的双轴晶体和聚焦透镜，连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体沿光束入射方向依次排列设置。将经过连续相位板匀滑之后的光束引入特殊角度的双轴晶体实现偏振调控，同时在聚焦平面实现不同偏振态焦斑的空间分离，实现非相干叠加，可以进一步降低焦斑分布的对比度，实现光束匀滑的效果。

基本信息

专利标题：

用于光束偏振匀滑的系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020356735.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-19

授权号：

CN211426954U

授权日：

2020-09-04

发明人：

孙喜博耿远超刘兰琴张颖黄晚晴王文义马文静陈元周丽丹袁晓东胡东霞

申请人：

中国工程物理研究院激光聚变研究中心

申请人地址：

四川省绵阳市绵山路64号

代理机构：

北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

张明利

优先权：

CN202020356735.9

主分类号：

G02B27/09

IPC分类号：

G02B27/09