一种四光束激光干涉微纳加工装置

授权

摘要

本申请属于多光束激光干涉微纳加工技术领域，特别是涉及一种相位差锁定的四光束激光干涉微纳加工装置和方法。针对现有的多光束激光干涉系统存在着分光器件多、调整光路复杂，光强不一致、系统可靠性低等问题。本申请提供了一种以相位差锁定的四路输出激光器为光源的四光束激光干涉微纳加工装置，包括依次排列的脉冲激励氙灯、Nd:YAG晶体、输出镜、1/4波片、调Q模块、达曼透射光栅腔镜和反射镜。所述激光器无需经过分光系统，可直接获得单纵膜、相位差锁定、光强相等、偏振态一致的四束光用以直接进行反射相交干涉，其装置操作简单，干涉角度易调整，成本低，可用于大面积、高效率、高分辨率的周期性微纳结构的加工。

基本信息

专利标题：

一种四光束激光干涉微纳加工装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020388560.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-24

授权号：

CN211698586U

授权日：

2020-10-16

发明人：

李永亮王驰杨超

申请人：

长春理工大学

申请人地址：

吉林省长春市卫星路7089

代理机构：

北京市诚辉律师事务所

代理人：

范盈

优先权：

CN202020388560.X

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20