全尺寸扩散炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种全尺寸扩散炉，包括工作台室、主机室及气源柜，工作台室内部设有一套机械驱动机构，机械驱动机构上安装至少一个推拉舟，推拉舟上放置有一个石英舟，石英舟内承载多片硅片，主机室内至少具有一个工艺腔室，工艺腔室的第一端为进石英舟的炉口，第二端与气源柜以及外部的尾气处理装置连通，石英舟包括底部的舟托和上部的舟架，舟架包括位于工艺腔室轴线方向的两侧支架以及将两侧支架垂直相连的多个横杆，横杆四个为一组构成一个立方形的载片单元，硅片摆放在石英舟上时与工艺腔室的轴线方向平行，扩散反应的气体穿流式流过硅片之间。本实用新型的扩散炉使工艺腔室内的气体密度更加均匀，提高扩散反应的成功率。
基本信息
专利标题 ：
全尺寸扩散炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020414087.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-27
授权号 ：
CN211005720U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
陈庆敏吴晓松刘永法李丙科
申请人 ：
无锡松煜科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区硕放街道工业园区五期振发二路16号
代理机构 ：
江苏漫修律师事务所
代理人 ：
熊启奎
优先权 ：
CN202020414087.8
主分类号 ：
C30B31/10
IPC分类号 ：
C30B31/10 C30B31/16 C30B29/06 H01L21/223 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B31/00
单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之扩散或掺杂工艺；其所用装置
C30B31/06
同气态扩散材料接触的
C30B31/10
反应室；其所用材料的选择
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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