阴极结构及电化学还原碘代X射线造影剂的系统
授权
摘要

本实用新型涉及电化学还原技术领域,尤其是涉及一种阴极结构及电化学还原碘代X射线造影剂的系统。阴极结构,包括金属基底和附着于所述金属基底两面的金属有机框架层,所述金属有机框架层表面设置有酸性保护层。本实用新型的阴极结构,可以实现高稳定性和高效率的电化学还原脱碘,可以更加高效的实现电子传递,化学性质更加稳定,不易因阴极腐蚀导致金属流失或者失活;同时具有较高的氢自由基选择性,在较低阴极电势下稳定的产生大量高活性氢自由基,能够有效用于ICMs的还原脱碘。

基本信息
专利标题 :
阴极结构及电化学还原碘代X射线造影剂的系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020526922.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-10
授权号 :
CN211920984U
授权日 :
2020-11-13
发明人 :
涂响陈少华邓雪娇殷立峰代云容
申请人 :
中国环境科学研究院
申请人地址 :
北京市朝阳区洼里乡大羊坊8号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王焕
优先权 :
CN202020526922.7
主分类号 :
C02F1/461
IPC分类号 :
C02F1/461  C02F1/467  C02F101/12  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/46
用电化学方法
C02F1/461
用电解法
法律状态
2020-11-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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