一种岩石薄片抛光装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种岩石薄片抛光装置，属于岩石薄片抛光设备技术领域，解决了现有研磨抛光装置的自动化程度低、抛光效率低的问题。该抛光装置包括主体、控制组件和两组薄片加载组件，主体设有喷水组件、抛光液滴加组件、研磨抛光盘和驱动电机，控制组件用于控制岩石薄片的研磨抛光过程；薄片加载组件包括加载盘、修盘环以及用于限定加载盘位置的限位支架，加载盘可拆卸设于修盘环中，限位支架设有两个滚轮，滚轮与修盘环的外周壁相切，带动加载盘旋转，加载盘的旋转方向与研磨抛光盘的旋转方向相反。本实用新型的抛光装置自动化程度高，并且研磨抛光效果好、效率高。
基本信息
专利标题 ：
一种岩石薄片抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020580057.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-17
授权号 ：
CN212578326U
授权日 ：
2021-02-23
发明人 ：
郭唯明王成辉刘善宝孙艳
申请人 ：
中国地质科学院矿产资源研究所
申请人地址 ：
北京市西城区百万庄大街26号
代理机构 ：
北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
庞立岩
优先权 ：
CN202020580057.4
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B57/02 B24B51/00 B24B47/12 G01N1/32
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-02-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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