一种用于岩石薄片的高效研磨抛光装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于岩石薄片的高效研磨抛光装置，属于岩石薄片抛光设备技术领域，解决了现有研磨抛光装置的抛光效率低的问题。该高效研磨抛光装置包括用于抛光岩石薄片的主体和两组薄片加载组件；薄片加载组件包括加载盘，加载盘设有多个用于安装薄片样品的模板槽。本实用新型的研磨抛光装置研磨抛光效果好、效率高。
基本信息
专利标题 ：
一种用于岩石薄片的高效研磨抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020580064.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-17
授权号 ：
CN212748485U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
郭唯明黄凡赵芝王岩
申请人 ：
中国地质科学院矿产资源研究所
申请人地址 ：
北京市西城区百万庄大街26号
代理机构 ：
北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
庞立岩
优先权 ：
CN202020580064.4
主分类号 ：
G01N1/32
IPC分类号 ：
G01N1/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/28
测试用样品的制备
G01N1/32
抛光；腐蚀
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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