一种单端全屏蔽小型真空灭弧室
授权
摘要
本实用新型公开了一种单端全屏蔽小型真空灭弧室,其属于真空灭弧室技术领域,包括瓷壳和设置于所述瓷壳内部的屏蔽筒、静均压罩和动均压罩,所述屏蔽筒的第一端与所述静均压罩插接形成全屏蔽结构,所述屏蔽筒的第二端与所述动均压罩间隔设置形成开放式结构,所述第一端的边缘向所述屏蔽筒的内侧弯折形成第一卷边结构。全屏蔽结构可以完全屏蔽开断过程中电弧燃烧产生的金属蒸汽对瓷壳的静端造成的污染,有效提高开断后瓷壳绝缘水平。只对瓷壳的静端进行全屏蔽,减小屏蔽筒的尺寸,进而减小瓷壳的径向和轴向尺寸,缩小真空灭弧室的体积。第一卷边结构能够显著降低屏蔽筒与静均压罩两者端口处的局部电场强度,同时进一步加强对金属蒸汽的屏蔽作用。
基本信息
专利标题 :
一种单端全屏蔽小型真空灭弧室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020675429.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-28
授权号 :
CN211788810U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
张亚丽
申请人 :
陕西宝光真空电器股份有限公司
申请人地址 :
陕西省宝鸡市渭滨区宝光路53号
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
胡彬
优先权 :
CN202020675429.1
主分类号 :
H01H33/664
IPC分类号 :
H01H33/664 H01H33/662
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点;灭弧装置,例如灭弧环
法律状态
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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