副炉室清洁装置及副炉室清洁系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种副炉室清洁装置,包括:主机架,包括由底板和围设于底板四周的侧壁形成的容纳腔体,以及盖设于容纳腔体的开口端的盖板;刷盘,设置于主机架的盖板的一侧,刷盘远离主机架的顶面和与顶面相邻的侧面上设置有毛刷;移动结构,包括位于容纳腔体内的旋转部和升降部,旋转部包括旋转驱动单元和旋转轴,旋转轴的一端与驱动单元连接,另一端穿过盖板上的通孔与刷盘连接的旋转轴;升降部包括设置于主机架的侧壁上的行走电机,侧壁上设置有通孔,行走电机的外壳外露于通孔以能够与副炉室内壁接触、以带动主机架在副炉室内移动、使得毛刷对副炉室内壁进行清洁。本实用新型还涉及一种副炉室清洁系统。
基本信息
专利标题 :
副炉室清洁装置及副炉室清洁系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020754127.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-09
授权号 :
CN212168431U
授权日 :
2020-12-18
发明人 :
吴超全铉国刘佳奇
申请人 :
西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
代理机构 :
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 :
许静
优先权 :
CN202020754127.3
主分类号 :
B08B9/087
IPC分类号 :
B08B9/087
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B9/00
用专门的方法或设备清洁空心物品
B08B9/08
清洗容器,如槽的清洗
B08B9/087
包括使用工具,如刷子、刮刀的方法的
法律状态
2020-12-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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