副炉室清洁装置及副炉室清洁系统

授权

摘要

本实用新型涉及一种副炉室清洁装置，包括：主机架，包括由底板和围设于底板四周的侧壁形成的容纳腔体，以及盖设于容纳腔体的开口端的盖板；刷盘，设置于主机架的盖板的一侧，刷盘远离主机架的顶面和与顶面相邻的侧面上设置有毛刷；移动结构，包括位于容纳腔体内的旋转部和升降部，旋转部包括旋转驱动单元和旋转轴，旋转轴的一端与驱动单元连接，另一端穿过盖板上的通孔与刷盘连接的旋转轴；升降部包括设置于主机架的侧壁上的行走电机，侧壁上设置有通孔，行走电机的外壳外露于通孔以能够与副炉室内壁接触、以带动主机架在副炉室内移动、使得毛刷对副炉室内壁进行清洁。本实用新型还涉及一种副炉室清洁系统。

基本信息

专利标题：

副炉室清洁装置及副炉室清洁系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020754127.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-09

授权号：

CN212168431U

授权日：

2020-12-18

发明人：

吴超全铉国刘佳奇

申请人：

西安奕斯伟硅片技术有限公司

申请人地址：

陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司

代理人：

许静

优先权：

CN202020754127.3

主分类号：

B08B9/087

IPC分类号：

B08B9/087