一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置
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摘要
本实用新型公开一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置，属于高精度镀膜技术领域。所述可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置包括工件盘、镀膜夹具和光学元件；所述工件盘开有旋转空腔，所述镀膜夹具放置于所述旋转空腔中，所述镀膜夹具与所述工件盘转动连接；所述光学元件放置于所述镀膜夹具中，并通过滑动卡扣机构固定安装。该可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置通过电机控制所述镀膜夹具既能够保证光学元件的双面受热均匀，还能保证光学元件两面的镀膜环境相同；在完成双面镀膜之后，两面光学薄膜同时应力释放，并且保持几乎完全等同的应力释放速率；在实现超高面形偏差精度的同时还能减少镀膜返工次数，降低了时间和资金成本。
基本信息
专利标题 ：
一种可实现光学元件面形高精度控制的镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020782677.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-12
授权号 ：
CN212051636U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
沈清李旭光
申请人 ：
无锡奥夫特光学技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市梁溪区会北路26-17
代理机构 ：
无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨立秋
优先权 ：
CN202020782677.6
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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