本实用新型提供了一种对光学元件的面形进行高精度修复的刻蚀装置，包括装架、刻蚀头、三维移动平台和计算机，所述刻蚀头安装在三维移动平台上，三维移动平台通过控制线与计算机相连，所述刻蚀头由放置易挥发有机溶剂的容器和刻蚀液容器组成，所述容器设置在刻蚀液容器的外部四周，所述容器上端开口，所述刻蚀液容器上设置有刻蚀液出口。本实用新型由于采用由易挥发的有机溶液对刻蚀区域进行限制，实现了可控的“化学磨头”效果，对光学元件“污染”较少，可以有效避免传统加工中引进的抛光原料的杂质和加工过程中产生的亚表面缺陷，可以对目前较为困难的薄基片和中等口径的光学元件进行高精度、无污染的面形修复。