一种平面光学元件的面形修正方法
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摘要
本发明涉及一种平面光学元件的面形修正方法，包括如下步骤：在平面光学元件的正面镀制要求的多层膜，并根据公式(1)在平面光学元件的背面镀制修正的单层膜，修正的单层膜厚度＝2/3×多层膜厚度×K1×K2公式(1)；公式(1)中，K1＝镀制多层膜使用的离子能量/镀制修正单层膜使用的离子能量，K2＝10×(平面光学元件的厚度/平面光学元件最大方向口径)。在平面光学元件的背面用SiO2单层膜修正平面光学元件的面形，较双面镀制相同薄膜的方案容易操作，且SiO2同各种光学元件材料匹配性好，牢固度好。修正后的面形精度高，很容易到达小于λ/10。
基本信息
专利标题 ：
一种平面光学元件的面形修正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112817070A
申请号 ：
CN202110156854.9
公开（公告）日 ：
2021-05-18
申请日 ：
2021-02-04
授权号 ：
CN112817070B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
朱元强叶沈航程章彬廖以旺
申请人 ：
福建福特科光电股份有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市闽侯县铁岭工业集中区二期7号路8号
代理机构 ：
福州市众韬专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
方金芝
优先权 ：
CN202110156854.9
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-06-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/10
申请日 : 20210204
申请日 : 20210204
2021-05-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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