氧化性气态等离子体发生装置及烟气治理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种氧化性气态等离子体发生装置。该装置包括：氧化气形成设备，其用于利用反应物料产生含有二氧化氯的氧化气；所述氧化气形成设备具有空气入口、氧化气出口和用于对氧化气形成设备进行泄压的防爆设备；曝气设备，其与所述空气入口相连，其设置为能够向氧化气形成设备提供空气，并对氧化气形成设备内的反应物料进行曝气；等离子发生设备，其与所述的氧化气出口相连，其设置为能够利用氧化气形成氧化性气态等离子体。该装置能够产生氧化性气态等离子体且运行安全性高。本实用新型还公开了一种烟气治理装置。
基本信息
专利标题 ：
氧化性气态等离子体发生装置及烟气治理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020809775.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-15
授权号 ：
CN212348690U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
童裳慧
申请人 ：
中晶环境科技股份有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区荣华南路10号荣华国际3号楼20层
代理机构 ：
北京悦成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
樊耀峰
优先权 ：
CN202020809775.4
主分类号 ：
B01J19/08
IPC分类号 ：
B01J19/08 B01J7/02 B01D53/76
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J19/00
化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备
B01J19/08
利用直接应用电能，波能或粒子辐射的方法；其所用设备
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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