一种有机溶剂真空汽相清洗设备

授权

摘要

本实用新型涉及一种有机溶剂真空汽相清洗设备，所述清洗设备包括清洗槽、温液槽、冷液槽、沸腾槽和冷凝单元，所述清洗槽分别连接温液槽和冷液槽，所述冷液槽、温液槽、沸腾槽和冷凝单元依次连接并形成循环，所述清洗槽为四边溢流超声清洗槽，连接有真空泵和蒸汽输入管，所述蒸汽输入管上设有蒸汽阀门。与现有技术相比，本实用新型以较小的溶剂损耗率有效提高零件的洁净度，具有安全可靠等优点。

基本信息

专利标题：

一种有机溶剂真空汽相清洗设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021049473.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-09

授权号：

CN212525232U

授权日：

2021-02-12

发明人：

江浩

申请人：

上海天粹自动化设备有限公司

申请人地址：

上海市松江区叶榭镇叶繁路199弄11号C区

代理机构：

上海科盛知识产权代理有限公司

代理人：

翁惠瑜

优先权：

CN202021049473.8

主分类号：

B08B3/12

IPC分类号：

B08B3/12 B08B3/08 B08B3/10 B08B3/00 B08B3/04 B08B3/14 B08B13/00